توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Fedotov, J. A., & Pohl, H. (1974). Fotolithografie: Grundlagen und Anwendung in der Halbleitertechnologie (1. Auflage.). Verlag Technik.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Fedotov, J. A., و H-J Pohl. Fotolithografie: Grundlagen Und Anwendung in Der Halbleitertechnologie. 1. Auflage. Berlin ; Moskau: Verlag Technik, 1974.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Fedotov, J. A., و H-J Pohl. Fotolithografie: Grundlagen Und Anwendung in Der Halbleitertechnologie. 1. Auflage. Verlag Technik, 1974.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.