Fotolithografie : Grundlagen und Anwendung in der Halbleitertechnologie

Библиографические подробности
Другие авторы: Fedotov, J. A. (Редактор), Pohl, H-J (Редактор)
Формат:
Язык:German
Опубликовано: Berlin ; Moskau : Verlag Technik, 1974
Редактирование:1. Auflage
Контексты/части:1 записей
Описание
Объем:336 S. : 205 Abb. ; 43 Tafeln
Шифр:[mehrbändig! Sign. s. bei den Bänden]